真空镀膜——电镀靶材与溅镀靶材的处理的区别

2023/02/11

随着人们生活水准的提高以及科学技术的不断发展，人们对耐磨、耐腐蚀、耐高温的装饰镀膜用品的性能要求越来越高了，当然，镀膜还可以美化这些物件的色彩。下面讲解一下电镀与溅镀靶材的处理的区别。

　　电镀

　　电镀的原理与电解精炼铜的原理是一致的。电镀时，一般都是用含有镀层金属离子的电解质配成电镀液；把待镀金属制品浸入电镀液中与直流电源的负极相连，作为阴极；用镀层金属作为阳极，与直流电源正极相连。通入低压直流电，阳极金属溶解在溶液中成为阳离子，移向阴极，这些离子在阴极获得电子被还原成金属，覆盖在需要电镀的金属制品上。

　　溅镀

　　原理主要利用辉光放电，将氩气离子撞击靶表面，靶材的原子被弹出，而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化，造成靶与氩气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀，基本的原理是在中利用辉光放电，将氩气离子撞击靶材表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。